반응형 포토리소그래피1 #11. 포토 공정 간단 정리 #11. 포토리소그래피(Photolithography) 공정 간단 정리! 포토리소그래피(Photolithography)는 반도체 제조 공정 중의 하나로, 반도체 웨이퍼에 포토 레지스트(PR) 라는 물질을 적용하고, 이후 노출 및 에칭 과정을 통해 반도체 회로 패턴을 형성하는 과정을 말합니다. 포토리소그래피 과정은 다음과 같은 단계로 이루어집니다. 레지스트 코팅: 반도체 웨이퍼 표면에 레지스트를 적용하는 단계로, 레지스트는 노출 단계에서 빛을 조사받아 원하는 회로 패턴을 형성하는 역할을 합니다. 노출: 레지스트에 빛을 조사하여 레지스트를 노출시키는 단계로, 노출에 사용되는 마스크는 원하는 회로 패턴을 가지고 있습니다. 레지스트는 노출된 부분과 노출되지 않은 부분으로 나뉘어지게 됩니다. Develop: 노출.. 2023. 4. 12. 이전 1 다음 반응형