반응형 PR2 #16. PR의 종류 간단 정리 #16. PR의 종류 간단 정리! 오늘은 포토 공정에서 사용하는 PR(Photo Resist)의 종류에 대해서 간단히 정리해보겠습니다! 양극성 포토레지스트(PPR)는 광감도성 고분자 재료로 이루어진 반도체 공정에서 사용되는 포토레지스트의 한 종류입니다. 노광 후 광을 받은 부분이 고분자를 분해시키고 노출되지 않은 부분은 분해되지 않는 특징이 있습니다. 즉, 노광 후 분해되는 부분은 노광에 노출된 부분이며, 노광에 노출되지 않은 부분은 분해되지 않습니다. 이러한 특성으로 인해, 노광 후 제거되지 않은 부분만 남겨져 패턴을 형성할 수 있습니다. 반면, 음극성 포토레지스트(NPR)는 양극성 포토레지스트와는 달리 노광 후 광을 받은 부분이 분해되지 않고 노광에 노출되지 않은 부분이 고분자를 분해시키는 특징이 있.. 2023. 4. 19. #11. 포토 공정 간단 정리 #11. 포토리소그래피(Photolithography) 공정 간단 정리! 포토리소그래피(Photolithography)는 반도체 제조 공정 중의 하나로, 반도체 웨이퍼에 포토 레지스트(PR) 라는 물질을 적용하고, 이후 노출 및 에칭 과정을 통해 반도체 회로 패턴을 형성하는 과정을 말합니다. 포토리소그래피 과정은 다음과 같은 단계로 이루어집니다. 레지스트 코팅: 반도체 웨이퍼 표면에 레지스트를 적용하는 단계로, 레지스트는 노출 단계에서 빛을 조사받아 원하는 회로 패턴을 형성하는 역할을 합니다. 노출: 레지스트에 빛을 조사하여 레지스트를 노출시키는 단계로, 노출에 사용되는 마스크는 원하는 회로 패턴을 가지고 있습니다. 레지스트는 노출된 부분과 노출되지 않은 부분으로 나뉘어지게 됩니다. Develop: 노출.. 2023. 4. 12. 이전 1 다음 반응형