반응형 Atomic Layer Deposition1 #1. ALD(Atomic Layer Deposition) 간단 정리 #1. ALD 간단 정리! ALD(Atomic Layer Deposition)는 나노 기술 분야에서 사용되는 고급 박막 증착 기술입니다. 말 그대로, 원자 단위로 박막을 증착하는 과정을 의미합니다. ALD는 높은 균일성, 고해상도, 나노 두께 제어 등의 특징을 가지고 있어, 다양한 분야에서 광범위하게 활용되고 있습니다. ALD의 작동 원리는 다음과 같습니다. 기초물질 공급: 전구체(Precursor)를 반응 챔버에 공급합니다. 기초물질은 원자 또는 분자 형태로 공급되며, 박막의 화학 조성을 결정합니다. 반응 가스 공급: 기초물질 공급 후, 반응 가스(Reactant)를 반응 챔버에 공급합니다. 반응 가스는 기초물질과 반응하여 원자 또는 분자 형태로 표적 표면에 흡착됩니다. 반응: 전구체와 반응 가스 사이.. 2023. 4. 11. 이전 1 다음 반응형