반응형 oxidation1 #10. 산화 공정(Oxidation) 간단 정리 #10. 산화 공정 간단 정리! 산화 공정은 반도체 제조 과정 중 하나로, 반도체 웨이퍼에 산화막을 형성하는 과정을 말합니다. 산화막은 반도체 소자의 전기적 특성을 제어하고, 소자의 성능을 향상시키는 역할을 합니다. 대표적인 산화 공정 기술에 대한 더 자세한 설명입니다. 열 산화 (Thermal Oxidation): 열 산화는 반도체 웨이퍼를 고온에서 산소와의 반응에 노출하여 산화막을 형성하는 방법입니다. 일반적으로 산소 가스 환경에서 웨이퍼를 고온로에 노출시켜 산화막을 형성하며, 주로 드라이 산화(Dry Oxidation)와 습식 산화(Wet Oxidation) 두 가지 형태로 나누어집니다. 드라이 산화는 산소와 웨이퍼의 직접적인 반응에 의해 산화막을 형성하며, 높은 온도와 긴 시간이 필요하다는 단점이.. 2023. 4. 12. 이전 1 다음 반응형