#16. PR의 종류 간단 정리

#16. PR의 종류 간단 정리!

 

오늘은 포토 공정에서 사용하는 PR(Photo Resist)의 종류에 대해서 간단히 정리해보겠습니다!

 

 양극성 포토레지스트(PPR)는 광감도성 고분자 재료로 이루어진 반도체 공정에서 사용되는 포토레지스트의 한 종류입니다. 노광 후 광을 받은 부분이 고분자를 분해시키고 노출되지 않은 부분은 분해되지 않는 특징이 있습니다. 즉, 노광 후 분해되는 부분은 노광에 노출된 부분이며, 노광에 노출되지 않은 부분은 분해되지 않습니다. 이러한 특성으로 인해, 노광 후 제거되지 않은 부분만 남겨져 패턴을 형성할 수 있습니다.

 반면, 음극성 포토레지스트(NPR)는 양극성 포토레지스트와는 달리 노광 후 광을 받은 부분이 분해되지 않고 노광에 노출되지 않은 부분이 고분자를 분해시키는 특징이 있습니다. 즉, 노광 후 분해되는 부분은 노광에 노출되지 않은 부분이며, 노광에 노출된 부분은 분해되지 않습니다. 이러한 특성으로 인해, 노광 후 제거될 부분만 남겨져 패턴을 형성할 수 있습니다.

 따라서, 양극성 포토레지스트는 노광 후 광이 노출된 부분에서 고분자가 분해되어 패턴을 형성하게 되므로, 패턴을 형성할 때 노광 후 고분자가 남아있는 부분이 흰색 부분이 됩니다. 이에 반면, 음극성 포토레지스트는 노광 후 광이 노출되지 않은 부분에서 고분자가 분해되어 패턴을 형성하게 되므로, 패턴을 형성할 때 노광 후 고분자가 남아있는 부분이 검은색 부분이 됩니다.

 이러한 특성을 고려하여, 양극성 포토레지스트는 PCB(회로 기판), 반도체 제조, 디스플레이 제조 등의 분야에서 널리 사용되고 있습니다. 반면 음극성 포토레지스트는 각종 센서 제조, 레이저나 광파이버 제조 등의 분야에서 주로 사용됩니다.